設備特點介紹：
1、半自(zi)動酸堿清洗機可用于2~12寸清洗、蝕(shi)刻、去(qu)膠(jiao)、顯影、電鍍。
2、本(ben)設備采用模塊(kuai)化設計，其機械手傳輸系統模塊(kuai)易安裝。
3、設(she)備帶消(xiao)防設(she)施，機臺各模塊之間及模塊內零部件互鎖功能等。
4、對比手動機臺，其清(qing)洗過程自(zi)動進行(xing)，減少人員操作帶來的影(ying)響；對比自(zi)動機臺，成本更低，產出(chu)快，清(qing)洗效果相同。
設備特點介紹：
1、半自(zi)動酸堿清洗機可用于2~12寸清洗、蝕(shi)刻、去(qu)膠(jiao)、顯影、電鍍。
2、本(ben)設備采用模塊(kuai)化設計，其機械手傳輸系統模塊(kuai)易安裝。
3、設(she)備帶消(xiao)防設(she)施，機臺各模塊之間及模塊內零部件互鎖功能等。
4、對比手動機臺，其清(qing)洗過程自(zi)動進行(xing)，減少人員操作帶來的影(ying)響；對比自(zi)動機臺，成本更低，產出(chu)快，清(qing)洗效果相同。
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